光致抗蚀剂，也称为光致抗蚀剂，是由光敏树脂，敏化剂和溶剂组成的光敏混合液体。它广泛用于集成电路，太阳能光伏和MEMS。

　　高度均匀的光致抗蚀剂膜主要通过旋涂处理。通过旋涂工艺获得的光致抗蚀剂膜的最终厚度由诸如光致抗蚀剂的粘度，表面张力和转盘的旋转角速度等因素确定。在旋涂期间通过离心力除去大部分光致抗蚀剂。晶片表面造成浪费，因此光刻胶的利用率极低。

　　对于光刻胶涂层工艺的浪费(旋涂工艺)和环境污染问题，奇飞超声波在自主研发的120KHZ超声雾化涂装设备的基础上，对光刻胶涂装工艺进行了改进。

　　超声雾化涂装设备功耗低(10W)，产生的雾化液滴平均粒径小，均匀性好。将光致抗蚀剂直接涂装在晶片表面上。因此，它被认为是绿色光致抗蚀剂膜制备方法。然而，常规超声雾化涂装设备表面雾化液滴的初始速度很小，容易受到周围空气的干扰，这对于获得高质量的光刻胶膜是不利的，并且难以实现理想的涂装效果。为此，Chifei Ultrasonic在超声雾化涂装设备中增加了载气模块，增加了雾化液滴的功率，控制了雾化喷雾的方向和范围，实现了光刻胶膜在晶圆表面的定向涂装。基材。